Мастер-класс

в Институте химии ДВО РАН

 

ihfefuiac

 

 

18 декабря 2014 г.  во Владивостоке на базе Института химии ДВО РАН пройдет мастер-класс  «Применение современного японского оборудования и передовых технологий в научных исследованиях и промышленном производстве». Его организаторы: Институт химии ДВО РАН, Инженерная школа ДВФУ и японская торговая компания «Interactive Corporation».

Программа

    • 9.30 Регистрация
    • 10.00 Презентация оборудования фирмы Fuji Electronic Ind. Co. LTD «Использование передовых технологий искрового-плазменного спекания (SPS) в научных исследованиях и промышленном производстве» (докл. И. Агафонов - специалист по оборудованию «IАC», Москва, при участии гл. инженера Ш. Исичи и ген. директора Т. Осава Fuji Electronic, Токио)
    • 11.00 Презентация оборудования фирмы Seki Diamond Systems «Технология изготовления алмазных и алмазоподобных пленок методом плазмохимического газофазного осаждения" (докл. И. Агафонов)
    • 11.20 Демонстрация спекания порошка никеля (Ni) - типичный пример спекания металла (Ш. Исичи)
    • 12.00 – 12.30 Кофе-брейк
    • 12:30  Демонстрация спекания порошков с различными температурами спекания -  пример 3-х слойного спекания композитного материала  на основе алюминия и меди (Ш. Исичи)
    • 14.00  Демонстрация спекания керамики Al2O3  (Ш. Исичи)
    • 15.30 Демонстрация спекания по запросу и из материалов заинтересованных исследователей (требуется запись для обсуждения деталей эксперимента)

 

Мастер-класс состоится

18 декабря 2014 г. (четверг) с 10.00 до 17.00

по адресу пр. 100 лет Владивостоку, 159,

Институт химии ДВО РАН

 

для участия необходимо зарегистрироваться

до 17 декабря 2014 г.

 Этот адрес электронной почты защищен от спам-ботов. У вас должен быть включен JavaScript для просмотра. , тел. 8-914-720-55-63  

Этот адрес электронной почты защищен от спам-ботов. У вас должен быть включен JavaScript для просмотра., тел. 8-904-629-78-70

 

 

image4

 

 

© Дальневосточное отделение Российской академии наук

Количество посещений

Информация о сайте ДВО РАН